众所周知，光刻机被誉为半导体产业皇冠上的明珠。可以这么说，光刻机的发展推动着半导体行业技术演进。目前最好的国产光刻机能达到90nm工艺技术，然而实际上最先进的荷兰ASML公司已经可以生产5nm工艺的光刻机。所以说中国要造出5nm光刻机还需要很长的路要走。

荷兰ASML公司是世界顶级光刻机制造商。大家可能对光刻机比较陌生，但是如果说芯片，大家肯定都有所了解，而光刻机就是生产芯片的最重要的设备。比如我们现在的智能手机，没有手机芯片，就制造不出手机，而如果没有光刻机，就制造不出芯片。

光刻机可以说是世界上技术最复杂的设备之一，而能够生产出5nm工艺光刻机的厂家只有一个，那就是荷兰的ASML。目前华为的最高端麒麟1020芯片、高通骁龙875、苹果A14都是采用的5nm制程工艺技术。在7nm以下制程工艺的光刻机，荷兰ASML可以说是独霸全球。正所谓，物以稀为贵，一台7nm光刻机售价高达1.2亿美元，而且还要提前好几年预定。

那么生产高端光刻机为什么这么难呢？

• 众所周知，科技企业的最大支持应该就是研发方面了。华为的5G技术领先全球，还有麒麟芯片也步入世界前列，这一切都要归结于华为在研发方面的资金投入。去年华为研发费用高达1317亿人民币，占全年销售的15.3%。荷兰ASML也不例外，欧洲人均科研经费排名第二的高科技公司。实际上，台积电、因特尔、三星等芯片企业都要使用ASML的光刻机，为了共同发展，这几家高科技企业都持有ASML部分股份。同样可以为ASML提供大量的研发经费和技术支持。

• 光刻机里面有五万多个零件组成，可以说是一个非常复杂的最尖端的设备之一。很显然，单凭一个荷兰一个国家是无法完成的。光刻机的两个主要零件就是光源和镜头，光源由美国企业提供，镜头是由德国蔡司企业提供。其中还包括有韩国等国家的技术，但主要是西方的一些国家。所以荷兰ASML的发展是和多个国家的技术支持是分不开的。

中国国产光刻机为什么发展如此缓慢？

美国对中国半导体行业的封锁，尤其是特朗普上台的这几年，对中国科技企业可以说是极端打压，比如华为和中兴。然而即使这样，华为的5G技术依然领先全球，目前华为在芯片研发领域可以说是处于世界前列。由于美国对我国在这方面的封锁，国产光刻机根本没有办法使用全球范围内最好的配件。因此国产光刻机的核心组件只能用国产的，大部分的核心组件都无法和国外厂商相比。

总结

那么中国要造出5nm光刻机需要多长时间呢？不得不说，和美国总统特朗普有很大的关系。如果特朗普在今年11月份总统大选中连任的话，那么会继续对中国半导体行业封锁。如果那样的话，我国要造出5nm光刻机的话，至少要十年左右的时间。如果特朗普下台的话，中国很有可能在5年内研发出来顶级光刻机。中国有集中力量办大事的制度优势，只要给中国机会，中国一定会让全世界瞩目的。

荷兰ASML公司的人说，就算中国得到了7nm工艺光刻机的全部图纸也无法生产出来，这纯粹是瞎扯，很多人把荷兰的光刻机太神话了。如果是这样的话，那美国为什么禁止荷兰向中国出售高端光刻机？这几年中国的创造力已经让美国开始忌惮了。凭借中国坚韧不拔的精神，国产5nm光刻机离我们不会太远。

中国要造出5nm的光刻机需要多长时间呢？

光刻机，就是用光线在硅晶圆上刻画出电路图来。所以最核心的分为两方面：一是技术，二是工艺。落实到具体的对象上，就是镜头和激光光源，以此来分析中国在这两项技术上的所需的进程，就能大致了解中国造出5nm的光刻机需要多长时间了。

为何非要5nm这个参数级的光刻机

中国的中芯国际最近向荷兰的ASML成功订购了一台光刻机，但生产最高极限是7nm的芯片，要想突破7nm的这个技术瓶颈，就必须使用EUV（极紫外光源）技术，这所购的这台光刻机不含EUV光源的技术。

不是可以买吗？但买到。因为：

• EUV（极紫外光源）研究是多个国家参与的（包括美国）。
• 根据《瓦森纳协定》美国就可以决定不卖给你。

上面说的中芯国际订购的7nm芯片的光刻机，如果美国要使坏，要想成功订购也是不容易的。

20年前明确的目标，是5nm的EUV光刻机研发的最佳时间

早在1999年，EUV光刻机的地位就已经很明确了，谁有了EUV光刻机的技术，谁就有了芯片领域的未来。1997年的时候，美国的多家企业就发现了EUV技术商业价值，就联合进行了开发，也已明确了目标，这是全世界都不是什么秘密，中国没有进行相应的产业调整和重视。

研发5nm的EUV光刻机所需的资源

5nm的光刻机，必然要用到EUV技术，美国研发的最早，我们看一下世界范围内关于EUV技术研究和投入的情况：

1、美国

美国对EUV技术的研发时间最长，总共投入了50多个高校和科技企业进入到这个领域，最终在EUV光刻机领域，美国的占领先地位，收益也是最大的。

2、欧洲

对于EUV光刻机看的最重，联合了35个国家，共110多个高校和企业加入到研究的行列中。

3、日本和韩国

投入相对较小，但也有一定的成果

就是说，EUV（紫外光源）的研究是多个国家参与的，包括了美国、欧洲多国还有日本、韩国，美国出力最多，所以不买给中国。

结论：几十个国家，上百所研究单位，花费了20多年的时间，才研发出今天的EUV光刻机，实现了5nm级别制程的芯片。

到底研究了啥

要生产EUV光刻机，最关键和核心的研究课题有两个：镜头和激光光源。

1、镜头

现在世界上高端光刻机使用的是德国的卡尔蔡司光学镜头，世界上没有哪家公司能够复制卡尔蔡司的技术。

从长远观点看，中国也应发展自己的高端镜头产业，但中国与德国的关系还算可以， 不妨先拿来用，一边用一边研究，这样可以减少研发时间。

2、激光光源

这个核心技术是必须研究的，因为美国把持着《瓦森纳协定》，中国处在被禁运国家之列。就是说只要美国干预，中国将无法获得EUV光刻机。

因为这个EUV技术，美国和欧洲几十个国家（包括日本和韩国）研究了20多年，中国需要用多久呢？心里应该有一个底了吧。

综上所述，中国要研发EUV技术需要投入相当大的资源，当然中国是一个工业部门齐全的大国，集中力量办大事是中国制度的优点，但是，研发需要遵重科学规律，要有一个过程，像欧美日韩都需要近20年时间，那们打个折扣，总需要10年吧。

欢迎讨论，谢谢点评！

中国要造出5nm的光刻机需要多长时间呢？

最近关于芯片的话题十分火爆，并且引起了网友们关注，从而也有很多人将关注点延伸到有芯片的设备上，提到制造芯片的设备，那首先想到的就一定是光刻机，所以大家针对光刻机的关注度不小于芯片。

从源头延伸，谈光刻机那就一定要了解ASML（阿斯麦），以目前的情况来讲这家企业，称得上是全球光刻机生产企业的独角兽，最高端及最先进的光刻机，都是由这家公司生产的，像台积电、三星、英特尔甚至华为这样国内顶尖的科技企业，都对其有所依赖。

但是在大家将目光的关注点都放在光刻机上的时候，一定要了解在芯片制造过程当中中，其实还有一件设备起到关键性作用，这种设备和光刻机类似，那就是刻蚀机，可能很多人对光刻机的了解，要远远高于刻蚀机，但这并不足为奇。

不过这里要着重的说一点，虽然很多人在光刻机的研发进度上有唱衰的想法，但在刻蚀机的技术领域中，我们国家还是十分先进的，并且在2018年中微半导体，就已经实现量产5nm的刻蚀机，目前已交给台积电验证了。

如今，中微与泛林、应用材料、东京电子、日立4家美日企业一起，组成了国际第一梯队，为7纳米芯片生产线供应刻蚀机。而明年，台积电将率先进入5纳米制程，已通过验证的国产5纳米刻蚀机，预计会获得比7纳米生产线更大的市场份额。

事实上目前中国能生产的光刻机的技术是90nm，还在攻关65nm，45nm等技术，离ASML的7nm量产技术，差得还太远，别说几十年，十年八年的差距还是有的。

ASML光刻机

其实这两种设备的功能是完全不一样的，光刻机的意思是用光来刻录，即用光线在硅晶圆上刻画出电路图来。而刻蚀机则相反，用光来把不需要的部分去掉，只保留划了电路图的部分。

为何国内能生产5nm的刻蚀机，却只能生产90nm的光刻机

最主要的原因是光刻机技术更复杂，设备也更复杂，很多的零部件是美日韩垄断的，比如光源，国产的就完全技术不过关，跟不上。甚至不仅是中国跟不上，之前和ASML一样辉煌的尼康、cannon都落后了，跟不上ASML的节奏了。

中国要造出5nm的光刻机需要多长时间呢？

个人认为，应该还需要10年左右。

要制造一部光刻机，最核心的部件就是镜头和激光光源，而现在中国在这两项技术上还非常的落后。现在全球能够生产5nm及以上光刻机的厂家只有一个，就是荷兰的ASML，而其中最根本的原因就是光源。

现在，ASML是全球唯一一家掌握了极紫外光源技术的公司，要想突破7nm的这个技术瓶颈，就必须使用极紫外光源。最近，中芯国际就向ASML成功订购了一台光刻机，可以生产出7nm的芯片，但是，这台光刻机都不是EUV光源的，使用的是浸润ArF技术，也就是说7nm已经是这台光刻机的极限了。

为什么中芯国际不去买EUV的光刻机呢？

因为，最早极紫外光源的研究是多个国家参与的，包括了欧洲多国还有日本、韩国。而其中出力最多的就是美国。可以说，EUV光刻机的专利中，美国拥有的数量不在少数。这也是为什么中国没能得到EUV光刻机的根本原因。

而现在，中科院光电所算是国内对光源研究最领先的科研所了，但是，中科院光电所的技术还是在365nm的水平，也就是i-line阶段，实验室能够做出的芯片最高水平也只是在22nm。还有很多技术瓶颈需要突破，这些都没有什么捷径可走。

当然，除了光源，下一个门槛就是镜头了

在镜头上，现在ASML的EUV光刻机使用的是德国蔡司的镜头，其次能够排的上号的就是佳能和尼康了。而中国的镜头在高端市场上基本是没有影子，中国想要在这个领域有所突破，那也不是一时半会儿就能够见到成效的。

当然，鉴于中国的德国现在定没有什么矛盾，所以镜头技术的使用应该不会是个大问题，所以，我们勉强认为镜头上就不需要花精力去研究了吧。

说完了EUV光刻机的核心技术，我们就在说说他的发展吧

最早研究EUV光刻机的自然就是美国了，在1996年的时候，美国就展开了对电子束和软X射线光刻技术的探索，不过当时只是停留在科研上。1997年的时候，美国的多家企业就发现了其中的商业价值，开始进行EUV技术的联合开发，到了1999年，EUV光刻机的研究就已经被确认为是新一代光刻机发展的方向及目标。

也就是说，20年前，EUV光刻机的地位就已经很明确了，谁有了EUV光刻机的技术，谁就有了芯片领域的未来。美国作为最早的研发者，自然是加大投入跟进。而欧洲由于自己在半导体领域的逐渐衰弱，也是把EUV光刻机作为了自己崛起的赌注。韩国和日本当然也不甘落后，疯狂的跟进。

美国由于对EUV技术的研发时间最长，有一定底蕴，总共投入了50多个高校和科技企业进入到这个领域，当然，最终在EUV光刻机领域，美国的收益也是最大的。而欧洲对于EUV是最看重的，35个国家共110多个高校和企业加入到研究的行列中。日本算是其中研究最不上心的，也是EUV研究的国家中最终受益较小的，连韩国都不如。

几十个国家，上百所研究单位，花费了20多年的时间，才有了今天的EUV光刻机，也有了5nm制程的芯片。说中国花费10年的时间做出5nm的光刻机，我认为应该不为过吧。ASML就曾经说过，即使他们公开EUV光刻机的图纸，现在也没有哪家公司能够山寨，因为EUV的技术研发的难度非常之大，不是说谁都能够山寨的。

中国要造出5nm的光刻机需要多长时间呢？

三年之内吧。现在长春光机所极紫光刻机技术已经突破，上海微电子28nm 今年年底应该可以投产。要有信心。其实中国无惧跟美国打科技战争，如果中国技术突破不了，中美高层对话就不会先放下口风，荷兰阿斯麦也不会卖货给中国了

中国要造出5nm的光刻机需要多长时间呢？

中国的光刻机水平

许多人可能还不知道我国目前的光刻机水平，中芯国际已经能够量产14nm芯片，并且中芯国际已经拥有了一台7nm光刻机，那么是否代表着我国已经能够制造7nm光刻机了呢？答案是否定的，量产14nm芯片并不等于量产14nm光刻机，中芯国际拥有的一台7nm光刻机也是中芯国际前一段时间向荷兰公司ASML购买的，目前，全世界只有荷兰的ASML能够量产7nm光刻机，ASML也是全球最大的光刻机制造商，几乎垄断了光刻机市场。

我国最厉害的光刻机制造厂是来自上海的上海微电子装备公司（SMEE，后面用SMEE代替），SMEE目前的最高水平为量产90nm光刻机，90nm和7nm相比，从数字上来看，还像相差很大好像又相差不大，那么90nm到底是什么样的一个水平呢？2004年英特尔发布的最新奔腾处理器就是采用的90nm制程，也就是说，90nm是十几年前的水平。当然，虽然90nm制程是十几年前的技术，但是也不能小瞧它，它已经完全可以胜任基础工业设施和国防，像手机和电脑这种精密仪器，90nm芯片就有点力不从心了。当然，我们也不能灰心，要知道，SMEE成立时间仅仅为2002年，相比其它公司来说起步时间比较晚，从零到90nm也没有花费太多时间，相信后面他们能够更强！

中国要造出5nm光刻机所需时间

个人猜测，中国要造出5nm光刻机所需时间应该在15年左右，ASML从90nm到5nm大概花费了20年左右（大概时间并不十分准确），因为小名认为后人的发展速度总是会比前人快的，并且我们要相信中国的实力，中国从之前一个毫无竞争力的国家发展到现在的工业强国，只花费了几十年，并且这几十年间，中国的许多技术与发达国家相比，从远远落后变为了基本持平（甚至不少技术实现了超越），小名相信中国未来在芯片领域也会大有所成。